Neue In-situ-Messverfahren für hohe Prozesstemperaturen
![img](/sixcms/media.php/5713/thumbnails/10.1007_s35144-023-2556-z.pdf.59647398.gif)
Erstmals ist es gelungen, kontaktlose In-situ-Messungen unter Hochvakuumbedingungen bei Temperauren von bis zu 220 °C zu realisieren. Per Hochfrequenz-Wirbelstrommessung lassen sich so Schichtwiderstand, Schichtleitfähigkeit oder Metallschichtdicke direkt nach heißen Schichtabscheide- oder Schichtmodifizierungsprozessen berührungslos bestimmen.